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PS版的毛面層技術

   2020-03-11 12

PS 版的毛面層(mat layer)主要用在感光層表面,是由無數不連續的毛面顆粒(mat particles)構成的,其作用是可縮短接觸曝光所需的真空密接時間,并防止成像模糊。真空密接時間是指PS版曬版抽真空過程中,膠片和PS版感光層表面達到完全緊密接觸所需要的時間。

PS版的制版是采用接觸曝光方式曬版,過程如下。

在圖文曝光過程中,先把膠片覆蓋在PS版表面,再通過曬版光源將膠片上的圖文投射到PS版的感光層上。為了獲得清晰的圖像,曝光時需要將膠片和PS版感光層貼緊,不能有空隙。因此,通常使用真空抽氣框架,將膠片和PS版放在曬版機真空框架的玻璃板和橡皮布之間,然后抽真空,使膠片和PS版感光層貼緊。

但采用這種方式曝光,由于PS版表面平滑,膠片和PS版感光層密合部分的邊緣很容易貼緊,不利于中間部位空氣的抽出,致使抽真空所需時間較長,大大降低了制版操作的效率;而且有時經過很長時間后,空氣仍未抽空。由于國內膠印印版普遍使用的是陽圖型PS版,曝光時感光樹脂會分解而析出一定量的氮氣,如圖1所示,如果不能及時排除,也會使PS版與膠片之間出現空隙,導致曬出的版中間部位的網點發虛,產生影像模糊的現象。

為了提高印版與膠片的密合質量,縮短真空密接時間,人們開始采用在PS版感光層上加涂毛面層的辦法。由于毛面顆粒的存在,PS版感光層表面變得粗糙,在膠片和感光層之間制造出微小間隙,使中間部位的空氣易于抽出,減少了抽真空的時間。所以毛面層也稱為導氣層。

毛面層的另外一個作用是,當大量的PS版以堆疊的方式存放時,PS版感光層可能和上面一張PS版的背面貼住,不易揭開,此現象稱為粘版(tack)。解決這個問題的方法通常是加襯紙以隔離版材,但這樣會帶來新的問題,即使用PS版時,需要額外的勞力去除襯紙,大量的襯紙成為工業垃圾,同時有的自動上版制版機不能自動去襯紙。而毛面層可以很好地解決以上問題。

毛面層的性能要求

對于毛面層的性能,除了不能對PS版的感光、加工性能產生影響以外,還有以下幾點要求:

1.真空密接性

相對于普通PS版,噴涂毛面層的PS版在圖文曝光時的真空密接時間應顯著縮短。真空密接時間是評價毛面層性能的基本指標。

2.顯影性

毛面層應能溶解于水和堿性顯影液中,在PS版顯影步驟中易被除去,顯影后沒有殘留。版材在陳舊顯影液,或在高溫、高濕條件下仍能保持良好的顯影性能。

3.儲存穩定性

毛面層應能抵抗PS版在儲存和運輸過程中的摩擦力和壓力,不致于破碎和剝落,即具有一定的牢度。如果毛面層牢度不夠,不但影響真空密接性,而且毛面顆粒容易脫落成為粉末,污染曬版機玻璃表面,并且在抽真空時,粉末易堵塞真空泵。同時要求在溫度、濕度較高的條件下儲存時,毛面層不能發生粘版現象。

  毛面層原料

在早期的毛面層應用中,往往采用將熱熔固體粉末等顆粒直接涂布在感光層表面的辦法,這種毛面層存在顆粒易破碎、易脫落、機械強度差等缺點;后來是將超細的聚乙烯顆粒直接分散在感光膠液中,與感光膠一起涂布,采用這種工藝的毛面層牢度和強度較好,但將涂布液加入涂布槽時需要過濾,因為聚乙烯顆粒很容易將濾芯堵住;從20世紀80年代開始,改用水溶性樹脂水溶液涂布的方法,主要顆粒材料有羧基樹脂和磺酸基樹脂,可有效地提高毛面層的牢度,但此類樹脂吸濕性強,在高溫、高濕環境下發黏,儲存中易粘版;為了解決粘版問題,也有使用以堿中和的丙烯酸樹脂的,但由于加入了堿性物質,儲存較長時間后感光層分解,縮短了保質期。

上世紀90年代至今,開發出用丙烯酸類共聚物的溶解或分散水溶液生成毛面層的技術,可以較好地兼顧各種性能。毛面層涂布液的溶劑一般采用水或含水的有機溶劑,這主要是出于安全和環保考慮,同時也可得到最低的成本和較好的效果。

毛面層生產工藝

毛面層的涂布方式可以采用噴涂和靜電涂布,也有采用絲網印刷或凹印方式的,現在使用較多的是旋轉霧化靜電噴涂方式。其工藝過程如圖2所示,在旋轉霧化靜電噴涂裝置3中,利用杯狀噴霧頭的離心力和外加高電壓,將溶解或分散樹脂的水性液霧化,在噴霧頭和PS版1之間的高電場的作用下,霧化且帶靜電的微細液滴飛向感光層表面,進行靜電附著,如圖3所示。幾秒鐘后,PS版通過干燥室4,在高溫且濕度低的室內氣氛中或采取噴吹溫風的方式進行干燥。

毛面顆粒的大小和涂布量對PS版毛面層的性能有很大影響。如果毛面粒徑過大,或涂布量過大,則兩張PS版之間的接觸面變小,滑動性不足,容易引起感光層劃傷。毛面顆粒較大,會造成顆粒凸峰過高,膠片與PS版感光層的間隙過大,以致精細影像難以還原,高光部分網點的密度下降,圖像階調層次丟失。若顆粒高度太小,則間隙太小,真空密接性不足,成像模糊。涂布量過小也會如此。

當然在PS版面增加毛面層,必然導致PS版生產成本的上升。但從毛面層帶來的種種好處來看,添加毛面層是必要的,也是高質量PS版發展的需要。

 
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